光氧催化设备的工作原理以及作用，你了解吗？

氧催化是利用特制的高能UV紫外线光束照射具有光催化特性的催化剂，以裂解工业废气，如：氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、乙酸丁酯、乙酸乙酯、二硫化碳、苯乙烯、硫化物HzS．VOC类、苯、甲苯、二甲苯等。

　　光解作用：有机或无机高分子化合物的分子链在高能紫外线光束照射下，直接降解转变成低分子化合物，如COz，H20等。另一方面，高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。臭氧能起到氧化作用，将有机物氧化为无机化合物。

光催化作用：在紫外灯的照射下，催化剂表面发生氧化还原反应，从而将有机物分解。当用能量等于或大于半导体带隙能的光波辐射半导体光催化剂时，处于价带上的电子（e－）就会被激发到导带上并在电场作用下迁移到粒子表面，于是在价带上形成了空穴（h＋），从而产生了具有高活性的＂电子－空穴＂对。空穴可以夺取半导体表面被吸附物质或溶剂中的电子，使原本不吸光的物质被激活并被氧化，电子受体通过接受表面的电子而被还原．例如TiOz属于一种n型半导体材料，T102的禁带宽度为3．2eV ，当它受到波长小于或等于387．5nm的光线照射时，价带中的电子就会被激发到导带上，形成带负电的高活性电e－，同时在价带上产生带正电的空穴h＋（h＋的氧化电位以标准氢电位计3．0V比起氯气的1．36V和臭氧的2．07V ，具氧化性要强得多），形成“电子—空穴＂对的氧化一还原体系。分布在表面的空穴h＋可以将吸附本TiO2的0H－和H20分子氧化成羟基自由基，其标准电极电位为2．80V，羟基能氧化绝大部分的有机物及无机污染物，氧化为无机小分子、CO2和H20等无害物质。